Анодирование алюминиевых оснований.
Анодирование тонких пленок тугоплавких металлов.
Для анодирования алюминиевых оснований и тонких пленок, полученных методом вакуумного напыления, разработана и эксплуатируется установка, в которой реализованы следующие технологические приемы:

  • вращение изделий (платы 60х48 и 100х100мм) на карусельном механизме плюс вращение вокруг собственной оси  — планетарный принцип;
  • многоканальный агрегат питания обеспечивает в автоматическом режиме индивидуальную обработку каждой заготовки до требуемого значения запирающих напряжений. При этом обработка может быть многоступенчатой, как этого требуют конкретые технологические процессы;
  • осуществляется термостабилизация электролита в т.ч. при совместной работе нагревателей и змеевиков охлаждения а также при отрицательных температурах;
  • организована циркуляция электролитов и возможность их фильтрации.

Таким образом реализуются процессы:
В гальваностатическом режиме анодирования:

  • Толстослойное пористое анодирование алюминиевых оснований.

В потенциостатическом режиме анодирования:

  • Тонкослойное плотное анодирование алюминия.
  • Тонкослойное плотное анодирование тантала.
  • Тонкослойное пористое анодирование алюминия.

Характеристики агрегата питания

Программируемые параметры Пределы регулирования
Ток 0,01-10,00 А, шаг изменения 0,01 А – для ванны №1
0,01-20,00 А, шаг изменения 0,01 А – для ванны №2
Напряжение 1-250 В шаг изменения 1В – для  ванны №1
1-150 В шаг изменения 1В – для  ванны №2
Скорость подъема тока 0,01-0,2 А/с
Скорость подъема напряжения 0,2-2,0 В/с
Число работающих каналов для каждой ванны от 1-го до 4-х

Регистрация величины тока в процессе анодирования обеспечивается с шагом изменения 10 мкА.

Leave a comment

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *