Анодирование алюминиевых оснований и тонких пленок тугоплавких металлов

Анодирование алюминиевых оснований.
Анодирование тонких пленок тугоплавких металлов.
Для анодирования алюминиевых оснований и тонких пленок, полученных методом вакуумного напыления, разработана и эксплуатируется установка, в которой реализованы следующие технологические приемы:

• вращение изделий (платы 60х48 и 100х100мм) на карусельном механизме плюс вращение вокруг собственной оси  — планетарный принцип;
• многоканальный агрегат питания обеспечивает в автоматическом режиме индивидуальную обработку каждой заготовки до требуемого значения запирающих напряжений. При этом обработка может быть многоступенчатой, как этого требуют конкретые технологические процессы;
• осуществляется термостабилизация электролита в т.ч. при совместной работе нагревателей и змеевиков охлаждения а также при отрицательных температурах;
• организована циркуляция электролитов и возможность их фильтрации.

Таким образом реализуются процессы:
В гальваностатическом режиме анодирования:

• Толстослойное пористое анодирование алюминиевых оснований.

В потенциостатическом режиме анодирования:

• Тонкослойное плотное анодирование алюминия.
• Тонкослойное плотное анодирование тантала.
• Тонкослойное пористое анодирование алюминия.

Характеристики агрегата питания

Регистрация величины тока в процессе анодирования обеспечивается с шагом изменения 10 мкА.